Oxidation of ablated silicon during pulsed laser deposition in a background gas with different oxygen partial pressures

Počet záznamů: 1

1.

SYSNO	0509434
Název	Oxidation of ablated silicon during pulsed laser deposition in a background gas with different oxygen partial pressures
Tvůrce(i)	Starinskiy, S.V. (RU) Rodionov, A.A. (RU) Shukhov, Y.G. (RU) Bulgakov, Alexander V. (FZU-D)_ORCID
Zdroj.dok.	EPJ Web of Conferences, 196. S. 1-5. - les Ulis : EDP Sciences, 2019 / Markovich D.M. ; Kuibin P.A. ; Vorobyev M.A.
Konference	All-Russian School-Conference of Young cientists with International Participation Actual Problems of Thermal Physics and Physical Hydrodynamics (15), 20.11.2018 - 23.11.2018, Novosibirsk
Číslo článku	00008
Druh dok.	Konferenční příspěvek (zahraniční konf.)
Grant	CZ.02.1.01/0.0/0.0/15_003/0000445, XE - země EU
	EF15_003/0000445 GA MŠMT - Ministerstvo školství, mládeže a tělovýchovy
	LO1602 GA MŠMT - Ministerstvo školství, mládeže a tělovýchovy
Institucionální podpora	FZU-D - RVO:68378271
Jazyk dok.	eng
Země vyd.	FR
Klíč.slova	SiOx films * pulsed laser deposition (PLD) * silicon ablation
URL	https://www.epj-conferences.org/.../epjconf_avtfg18_00008.html
Trvalý link	http://hdl.handle.net/11104/0305900

Počet záznamů: 1