Počet záznamů: 1
Highly oriented crystalline Er:YAG and Er:YAP layers prepared by PLD and annealing
- 1.
SYSNO ASEP 0328762 Druh ASEP J - Článek v odborném periodiku Zařazení RIV J - Článek v odborném periodiku Poddruh J Článek ve WOS Název Highly oriented crystalline Er:YAG and Er:YAP layers prepared by PLD and annealing Překlad názvu Vysoce orientované krystalické vrstvy Er:YAG a Er:YAP připravené pomocí PLD a přežíhané Tvůrce(i) Remsa, Jan (FZU-D) RID, ORCID
Jelínek, Miroslav (FZU-D) RID, ORCID
Kocourek, Tomáš (FZU-D) RID, ORCID, SAI
Oswald, Jiří (FZU-D) RID, ORCID
Studnička, Václav (FZU-D) RID
Čerňanský, Marian (FZU-D) RID
Uherek, F. (SK)
Jelínek, M. (CZ)Celkový počet autorů 8 Zdroj.dok. Applied Surface Science. - : Elsevier - ISSN 0169-4332
Roč. 255, č. 10 (2009), s. 5292-5294Poč.str. 3 s. Jazyk dok. eng - angličtina Země vyd. NL - Nizozemsko Klíč. slova Er:YAG ; thin films ; waveguides ; PLD ; laser Vědní obor RIV BM - Fyzika pevných látek a magnetismus CEP GA202/06/0216 GA ČR - Grantová agentura ČR CEZ AV0Z10100522 - FZU-D (2005-2011) UT WOS 000263865000042 DOI https://doi.org/10.1016/j.apsusc.2008.08.037 Anotace High quality, thick, highly oriented crystalline thin films of Yttrium Aluminum Garnet (Y3Al5O12) and Yttrium Aluminum Perovskite (YAlO3) doped with Erbium were prepared by pulsed laser deposition. Samples were created in vacuum or oxygen environment. Depositions were arranged at room temperature, or at high substrate temperatures ranging from 800 to 1100 8C. Amorphous layers were annealed by laser, or in oven (argon flow, temperatures in range from 1200 to 1400 8C). Fused silica and sapphire (0 0 0 1) were used as substrates. Properties of films were characterized by X-ray diffraction, atomic force microscopy, and by photoluminescence measurement. Size of crystalline grains was in the range 116–773 nm. Thickness of layers was up to 17 mm. Pracoviště Fyzikální ústav Kontakt Kristina Potocká, potocka@fzu.cz, Tel.: 220 318 579 Rok sběru 2010
Počet záznamů: 1