Počet záznamů: 1
Microscopic study of the H.sub.2./sub.O vapor treatment of the silicon grain boundaries
- 1.
SYSNO 0312592 Název Microscopic study of the H2O vapor treatment of the silicon grain boundaries Překlad názvu Mikroskopická studie ošetřování hranic zrn v křemíku vodní parou Tvůrce(i) Honda, Shinya (FZU-D)
Mates, Tomáš (FZU-D) RID, ORCID
Rezek, Bohuslav (FZU-D) RID, ORCID
Fejfar, Antonín (FZU-D) RID, ORCID, SAI
Kočka, Jan (FZU-D) RID, ORCID, SAIZdroj.dok. Journal of Non-Crystalline Solids. Roč. 354, č. 19-25 (2008), s. 2310-2313. - : Elsevier Druh dok. Článek v odborném periodiku Grant LC06040 GA MŠMT - Ministerstvo školství, mládeže a tělovýchovy, CZ - Česká republika KAN400100701 GA AV ČR - Akademie věd GD202/05/H003 GA ČR - Grantová agentura ČR, CZ - Česká republika IAA1010316 GA AV ČR - Akademie věd LC510 GA MŠMT - Ministerstvo školství, mládeže a tělovýchovy IAA1010413 GA AV ČR - Akademie věd KJB100100512 GA AV ČR - Akademie věd SN/3/172/05 GA MŽP - Ministerstvo životního prostředí, CZ - Česká republika CEZ AV0Z10100521 - FZU-D (2005-2011) Jazyk dok. eng Země vyd. NL Klíč.slova polycrystalline silicon films * H2O vapor treatment * potential * crystalline disorder * stress * defects * passivation Trvalý link http://hdl.handle.net/11104/0163616
Počet záznamů: 1