Počet záznamů: 1
Investigation of the RF plasma jet system for deposition of LiCoO.sub.x./sub. thin films
- 1.
SYSNO ASEP 0134426 Druh ASEP J - Článek v odborném periodiku Zařazení RIV J - Článek v odborném periodiku Poddruh J Ostatní články Název Investigation of the RF plasma jet system for deposition of LiCoOx thin films Tvůrce(i) Hubička, Zdeněk (FZU-D) RID, ORCID, SAI
Čada, Martin (FZU-D) RID, ORCID, SAI
Jakubec, Ivo (UACH-T) SAI, RID, ORCID
Bludská, Jana (UACH-T) RID, SAI
Málková, Zuzana (FZU-D) RID, ORCID
Trunda, Bohumil (FZU-D)
Ptáček, Pavel (FZU-D)
Přidal, Jiří (FZU-D)
Jastrabík, Lubomír (FZU-D) RID, ORCIDZdroj.dok. Surface and Coatings Technology. - : Elsevier - ISSN 0257-8972
174-175, - (2003), s. 632-637Poč.str. 6 s. Jazyk dok. eng - angličtina Země vyd. NL - Nizozemsko Klíč. slova plasma jet ; LiCoO2 thin films ; Langmuir probe Vědní obor RIV BL - Fyzika plazmatu a výboje v plynech CEP GP202/02/P021 GA ČR - Grantová agentura ČR LN00A015 GA MŠMT - Ministerstvo školství, mládeže a tělovýchovy CEZ AV0Z4032918 - UACH-T AV0Z1010921 - FZU-D Anotace The RF plasma jet system was investigated as a source for the sputtered deposition of LiCoOx thin films. Plasma jet parameters were investigated during the sputtering process by a Langmuir probe system in the position of the substrate. The electron energy distribution function(EEDF) derivated from the Maxwellian distribution mainly in the energetic range below 5 eV. Pracoviště Fyzikální ústav Kontakt Kristina Potocká, potocka@fzu.cz, Tel.: 220 318 579 Rok sběru 2004
Počet záznamů: 1