Počet záznamů: 1  

CN.sub.x./sub.H.sub.y./sub. films obtained by ECR plasma activated CVD: the role of substrate bias (DC, RF) and some other deposition parameters in growth mechanism

  1. 1.
    Shaginyan, L. R. - Fendrych, František - Jastrabík, Lubomír - Soukup, Ladislav - Kulikovsky, V. Yu. - Musil, Jindřich
    CNxHy films obtained by ECR plasma activated CVD: the role of substrate bias (DC, RF) and some other deposition parameters in growth mechanism.
    Surface and Coatings Technology. 116/119, - (1999), s. 65-73. ISSN 0257-8972. E-ISSN 1879-3347
    Grant CEP: GA AV ČR IAA1010827
    Impakt faktor: 1.008, rok: 1999
    http://hdl.handle.net/11104/0030804

Počet záznamů: 1  

  Tyto stránky využívají soubory cookies, které usnadňují jejich prohlížení. Další informace o tom jak používáme cookies.