Počet záznamů: 1
CN.sub.x./sub.H.sub.y./sub. films obtained by ECR plasma activated CVD: the role of substrate bias (DC, RF) and some other deposition parameters in growth mechanism
SYS 0132805 LBL 00000nam^^22^^^^^^^^450 005 20240903114631.1 101 0-
$a eng 102 $a CH 200 1-
$a CNxHy films obtained by ECR plasma activated CVD: the role of substrate bias (DC, RF) and some other deposition parameters in growth mechanism 215 $a 9 s. 463 -1
$1 001 cav_un_epca*0257628 $1 011 $a 0257-8972 $e 1879-3347 $1 200 1 $a Surface and Coatings Technology $v 116/119, - (1999), s. 65-73 $1 210 $c Elsevier 700 -1
$3 cav_un_auth*0042222 $a Shaginyan $b L. R. $y UA $4 070 701 -1
$3 cav_un_auth*0100198 $a Fendrych $b František $p FZU-D $4 070 $T Fyzikální ústav AV ČR, v. v. i. 701 -1
$3 cav_un_auth*0100259 $a Jastrabík $b Lubomír $p FZU-D $w Low-Temperature Plasma $4 070 $T Fyzikální ústav AV ČR, v. v. i. 701 -1
$3 cav_un_auth*0100523 $a Soukup $b Ladislav $p FZU-D $4 070 $T Fyzikální ústav AV ČR, v. v. i. 701 -1
$3 cav_un_auth*0047055 $a Kulikovsky $b V. Yu. $y UA $4 070 701 -1
$3 cav_un_auth*0100398 $a Musil $b Jindřich $p FZU-D $w Fabrication and Analysis of Functional Materials $4 070 $T Fyzikální ústav AV ČR, v. v. i.
Počet záznamů: 1