Počet záznamů: 1
Applicability of raman scattering for the characterization of nanocrystalline silicon
- 1.0132467 - FZU-D 990417 RIV NL eng J - Článek v odborném periodiku
Ossadnik, Ch. - Vepřek, S. - Gregora, Ivan
Applicability of raman scattering for the characterization of nanocrystalline silicon.
Thin Solid Films. Roč. 337, - (1999), s. 148-151. ISSN 0040-6090. E-ISSN 1879-2731
Výzkumný záměr: CEZ:AV0Z1010914
Kód oboru RIV: BM - Fyzika pevných látek a magnetismus
Impakt faktor: 1.101, rok: 1999
Trvalý link: http://hdl.handle.net/11104/0030490
Počet záznamů: 1