Počet záznamů: 1
Formation of Ti.sub.1-xSi./sub.x and Ti.sub.1-xSi./sub.xN films by magnetron co-sputtering
- 1.
SYSNO ASEP 0132189 Druh ASEP J - Článek v odborném periodiku Zařazení RIV J - Článek v odborném periodiku Poddruh J Ostatní články Název Formation of Ti1-xSix and Ti1-xSixN films by magnetron co-sputtering Tvůrce(i) Musil, Jindřich (FZU-D) RID, ORCID
Jankovcová, H. (CZ)
Cibulka, V. (CZ)Zdroj.dok. Czechoslovak Journal of Physics. - : Springer - ISSN 0011-4626
Roč. 49, č. 3 (1999), s. 359-372Poč.str. 14 s. Jazyk dok. eng - angličtina Země vyd. CZ - Česká republika Vědní obor RIV BM - Fyzika pevných látek a magnetismus CEP GV106/96/K245 GA ČR - Grantová agentura ČR VS96059 GA MŠMT - Ministerstvo školství, mládeže a tělovýchovy ME 173 GA MŠMT - Ministerstvo školství, mládeže a tělovýchovy Pracoviště Fyzikální ústav Kontakt Kristina Potocká, potocka@fzu.cz, Tel.: 220 318 579 Rok sběru 2000
Počet záznamů: 1