Počet záznamů: 1
Formation of Ti.sub.1-xSi./sub.x and Ti.sub.1-xSi./sub.xN films by magnetron co-sputtering
SYS 0132189 LBL 00000nam^^22^^^^^^^^450 005 20230418210325.1 101 0-
$a eng 102 $a CZ 200 1-
$a Formation of Ti1-xSix and Ti1-xSixN films by magnetron co-sputtering 215 $a 14 s. 463 -1
$1 001 cav_un_epca*0256481 $1 011 $a 0011-4626 $1 200 1 $a Czechoslovak Journal of Physics $v Roč. 49, č. 3 (1999), s. 359-372 $1 210 $c Springer 700 -1
$3 cav_un_auth*0100398 $a Musil $b Jindřich $p FZU-D $w Fabrication and Analysis of Functional Materials $4 070 $T Fyzikální ústav AV ČR, v. v. i. 701 -1
$3 cav_un_auth*0038412 $a Jankovcová $b H. $y CZ $4 070 701 -1
$3 cav_un_auth*0038413 $a Cibulka $b V. $y CZ $4 070
Počet záznamů: 1