XPS and He II photoelectron yield study of the activation process in Ti-Zr NEG films

Počet záznamů: 1

SYSNO ASEP	0100134
Druh ASEP	J - Článek v odborném periodiku
Zařazení RIV	J - Článek v odborném periodiku
Poddruh J	Ostatní články
Název	XPS and He II photoelectron yield study of the activation process in Ti-Zr NEG films
Překlad názvu	Využití výtěžku fotoelektronů buzených čarou He II a rtg zářením ke studiu procesu aktivace Ti-Zr nevypařovaných tenkých vrstev
Tvůrce(i)	Zemek, Josef (FZU-D)_{RID, ORCID} Jiříček, Petr (FZU-D)_{RID, ORCID, SAI}
Zdroj.dok.	Vacuum. - : Elsevier - ISSN 0042-207X Roč. 71, - (2003), s. 329-333
Poč.str.	5 s.
Jazyk dok.	eng - angličtina
Země vyd.	GB - Velká Británie
Klíč. slova	non-evaporable getters ; Ti-Zr alloys ; XPS ; photoelectron yield ; activation process ; oxide reduction
Vědní obor RIV	BM - Fyzika pevných látek a magnetismus
CEZ	AV0Z1010914 - FZU-D
Anotace	An activation process of the Ti-Zr thin films was studied by X-ray induced photoelectron spectroscopy and by measurements of ultraviolet induced photoelectron yield
Pracoviště	Fyzikální ústav
Kontakt	Kristina Potocká, potocka@fzu.cz, Tel.: 220 318 579
Rok sběru	2005

Počet záznamů: 1