Počet záznamů: 1
Vapour pressure and heat capacities of metal organic precursors, Y(thd).sub.3./sub. and Zr(thd).sub.4./sub
- 1.0100075 - FZU-D 20040051 RIV NL eng J - Článek v odborném periodiku
Fulem, Michal - Růžička, K. - Růžička, V. - Šimeček, Tomislav - Hulicius, Eduard - Pangrác, Jiří
Vapour pressure and heat capacities of metal organic precursors, Y(thd)3 and Zr(thd)4
[Tlak nasycených par a měrná teplota organometalických prekurzorů Y(thd)3 and Zr(thd)4]
Journal of Crystal Growth. Roč. 264, - (2004), s. 192-200. ISSN 0022-0248. E-ISSN 1873-5002
Grant CEP: GA AV ČR KSK1010104
Klíčová slova: static method * vapour pressure * metalorganic chemical vapor deposition * Y and Zr precursors * .alpha.-diketonate complexes
Kód oboru RIV: BM - Fyzika pevných látek a magnetismus
Impakt faktor: 1.707, rok: 2004
Trvalý link: http://hdl.handle.net/11104/0007582
Počet záznamů: 1