- Reactive magnetron sputtering of hard Si-B-C-N films with a high-temp…
Počet záznamů: 1  

Reactive magnetron sputtering of hard Si-B-C-N films with a high-temperature oxidation resistance

  1. 1.
    VLČEK, J., POTOCKÝ, T., ČÍŽEK, J., HOUSKA, J., KORMUNDA, M., ZEMAN, Pavel, PEŘINA, Vratislav, ZEMEK, J., SETSUHARA, Y. Reactive magnetron sputtering of hard Si-B-C-N films with a high-temperature oxidation resistance. Journal of Vacuum Science & Technology A : Vacuum, Surfaces and Films. 2005, 23(6), 1513-1522. ISSN 0734-2101. E-ISSN 1520-8559.
Počet záznamů: 1  

  Tyto stránky využívají soubory cookies, které usnadňují jejich prohlížení. Další informace o tom jak používáme cookies.