Počet záznamů: 1  

Optical emission spectroscopy analysis of microwave plasma-enhanced chemical vapor deposition systems dynamic gas response

  1. 1.
    SYSNO ASEP0570231
    Druh ASEPJ - Článek v odborném periodiku
    Zařazení RIVJ - Článek v odborném periodiku
    Poddruh JČlánek ve WOS
    NázevOptical emission spectroscopy analysis of microwave plasma-enhanced chemical vapor deposition systems dynamic gas response
    Tvůrce(i) Lambert, Nicolas (FZU-D) ORCID, RID
    Sung, Kil-dong (FZU-D)
    Mortet, Vincent (FZU-D) RID, ORCID
    Celkový počet autorů3
    Číslo článku2200322
    Zdroj.dok.Physica Status Solidi A : Applications and Materials Science. - : Wiley - ISSN 1862-6300
    Roč. 220, č. 4 (2023)
    Poč.str.5 s.
    Jazyk dok.eng - angličtina
    Země vyd.US - Spojené státy americké
    Klíč. slovadiamond growth ; dynamic gas response ; microwave plasma-enhanced chemical vapor deposition (MWPECVD) ; optical emission spectroscopy (OES)
    Vědní obor RIVBM - Fyzika pevných látek a magnetismus
    Obor OECDFluids and plasma physics (including surface physics)
    CEPEF16_019/0000760 GA MŠMT - Ministerstvo školství, mládeže a tělovýchovy
    GA21-03538S GA ČR - Grantová agentura ČR
    Způsob publikováníOmezený přístup
    Institucionální podporaFZU-D - RVO:68378271
    UT WOS000847920600001
    EID SCOPUS85137227241
    DOI10.1002/pssa.202200322
    AnotaceMicrowave plasma-enhanced chemical vapor deposition (MWPECVD) is widely used for the growth of synthetic doped diamond for electronic and electrochemical applications. Recent results have shown the possible enhancement of phosphorus incorporation using the pulsed gas injection growth method. It is therefore important to understand the dynamics of precursor gases to optimize the dopants incorporation in diamond. In this work, the dynamic response of different gases (N-2, CH4, and O-2) impulses in hydrogen plasma is studied in two different MWPECVD reactors: a lab made NIRIM type reactor, and a commercial reactor made by Seki Diamond Systems. These reactors of different volumes are operated at different pressure and total gas flow. The time responses to the precursor gas injection are recorded by optical emission spectroscopy. Experimental time responses are fitted using an impulse response equation.
    PracovištěFyzikální ústav
    KontaktKristina Potocká, potocka@fzu.cz, Tel.: 220 318 579
    Rok sběru2024
    Elektronická adresahttps://doi.org/10.1002/pssa.202200322
Počet záznamů: 1  

  Tyto stránky využívají soubory cookies, které usnadňují jejich prohlížení. Další informace o tom jak používáme cookies.