Počet záznamů: 1  

Mechanism of the film composition formation during magnetron sputtering of WTi

  1. 1.
    SYSNO0185385
    NázevMechanism of the film composition formation during magnetron sputtering of WTi
    Tvůrce(i) Shaginyan, L. R. (UA)
    Mišina, M. (CZ)
    Kadlec, S. (CZ)
    Jastrabík, L. (CZ)
    Macková, Anna (UJF-V) RID, ORCID, SAI
    Peřina, Vratislav (UJF-V) RID
    Zdroj.dok. Journal of Vacuum Science & Technology A : Vacuum, Surfaces and Films. Roč. 19, č. 5 (2001), s. 2554-2566. - : AIP Publishing
    Druh dok.Článek v odborném periodiku
    Grant GV202/97/K038 GA ČR - Grantová agentura ČR
    KSK1010104 GA AV ČR - Akademie věd
    Jazyk dok.eng
    Země vyd.US
    Trvalý linkhttp://hdl.handle.net/11104/0081781
     

Počet záznamů: 1  

  Tyto stránky využívají soubory cookies, které usnadňují jejich prohlížení. Další informace o tom jak používáme cookies.