Počet záznamů: 1
Mechanism of the film composition formation during magnetron sputtering of WTi
- 1.
SYSNO 0185385 Název Mechanism of the film composition formation during magnetron sputtering of WTi Tvůrce(i) Shaginyan, L. R. (UA)
Mišina, M. (CZ)
Kadlec, S. (CZ)
Jastrabík, L. (CZ)
Macková, Anna (UJF-V) RID, ORCID, SAI
Peřina, Vratislav (UJF-V) RIDZdroj.dok. Journal of Vacuum Science & Technology A : Vacuum, Surfaces and Films. Roč. 19, č. 5 (2001), s. 2554-2566. - : AIP Publishing Druh dok. Článek v odborném periodiku Grant GV202/97/K038 GA ČR - Grantová agentura ČR KSK1010104 GA AV ČR - Akademie věd Jazyk dok. eng Země vyd. US Trvalý link http://hdl.handle.net/11104/0081781
Počet záznamů: 1