Počet záznamů: 1
Obecná metodika modelování vysokoteplotních technologických procesů metodou konečných prvků
- 1.
SYSNO 0449867 Název Obecná metodika modelování vysokoteplotních technologických procesů metodou konečných prvků Překlad názvu General methodology for high temperature processes of semiconductor technology by the finite element methods Tvůrce(i) Jirásek, Vít (FZU-D) RID
Potocký, Štěpán (FZU-D) RID, ORCID
Sveshnikov, Alexey (FZU-D) RIDVyd. údaje 2014 Poddruh Certifikovaná metodika Int.kód CM 2014-04 Technické parametry Metodika umožňuje výrazně snížit počet ladících procesů při zprovozňování nových pecí u zákazníků. Umožňuje mnohem jednodušší nastavení procesních parametrů pro výrobu konkrétních vrstev na Si deskách Ekonomické parametry Díky této metodice dojde ke snížení náročnosti uvádění nových pecí do provozu, čímž dojde k redukci ceny těchto prací až o 3%. Číselná identifikace CM 2014-04 Označení certifik. orgánu SVCS Process Innovation s.r.o., Optátova 37, Brno 637 00, Česká republika Datum certifikace výsledku 19.12.2014 Druh dok. Uplatněná certifikovaná metodika Grant TA01020972 GA TA ČR - Technologická agentura ČR Institucionální podpora FZU-D - RVO:68378271 Jazyk dok. cze Země vyd. CZ Klíč.slova CFD modelling * high temperature reactor * high temperature oxidation * phosphorus diffusion * boron diffusion * LPCVD * PECVD Trvalý link http://hdl.handle.net/11104/0251280
Počet záznamů: 1