Počet záznamů: 1  

Obecná metodika modelování vysokoteplotních technologických procesů metodou konečných prvků

  1. SYS0449867
    LBL
      
    02731^^^^^2200361^^^450
    005
      
    20240103211112.1
    100
      
    $a 20151109d m y slo 03 ba
    101
    0-
    $a cze
    102
      
    $a CZ
    200
    1-
    $a Obecná metodika modelování vysokoteplotních technologických procesů metodou konečných prvků
    210
      
    $d 2014
    541
    1-
    $a General methodology for high temperature processes of semiconductor technology by the finite element methods $z eng
    610
    0-
    $a CFD modelling
    610
    0-
    $a high temperature reactor
    610
    0-
    $a high temperature oxidation
    610
    0-
    $a phosphorus diffusion
    610
    0-
    $a boron diffusion
    610
    0-
    $a LPCVD
    610
    0-
    $a PECVD
    700
    -1
    $3 cav_un_auth*0100263 $i Optické materiály $j Optical Materials $w Optical Materials $4 070 $a Jirásek $b Vít $p FZU-D $T Fyzikální ústav AV ČR, v. v. i.
    701
    -1
    $3 cav_un_auth*0224392 $i Optické materiály $j Optical Materials $w Optical Materials $4 070 $a Potocký $b Štěpán $p FZU-D $T Fyzikální ústav AV ČR, v. v. i.
    701
    -1
    $3 cav_un_auth*0266878 $i Optické materiály $j Optical Materials $4 070 $a Sveshnikov $b Alexey $p FZU-D $T Fyzikální ústav AV ČR, v. v. i.
Počet záznamů: 1  

  Tyto stránky využívají soubory cookies, které usnadňují jejich prohlížení. Další informace o tom jak používáme cookies.