Počet záznamů: 1
Obecná metodika modelování vysokoteplotních technologických procesů metodou konečných prvků
SYS 0449867 LBL 02731^^^^^2200361^^^450 005 20240103211112.1 100 $a 20151109d m y slo 03 ba 101 0-
$a cze 102 $a CZ 200 1-
$a Obecná metodika modelování vysokoteplotních technologických procesů metodou konečných prvků 210 $d 2014 541 1-
$a General methodology for high temperature processes of semiconductor technology by the finite element methods $z eng 610 0-
$a CFD modelling 610 0-
$a high temperature reactor 610 0-
$a high temperature oxidation 610 0-
$a phosphorus diffusion 610 0-
$a boron diffusion 610 0-
$a LPCVD 610 0-
$a PECVD 700 -1
$3 cav_un_auth*0100263 $i Optické materiály $j Optical Materials $w Optical Materials $4 070 $a Jirásek $b Vít $p FZU-D $T Fyzikální ústav AV ČR, v. v. i. 701 -1
$3 cav_un_auth*0224392 $i Optické materiály $j Optical Materials $w Optical Materials $4 070 $a Potocký $b Štěpán $p FZU-D $T Fyzikální ústav AV ČR, v. v. i. 701 -1
$3 cav_un_auth*0266878 $i Optické materiály $j Optical Materials $4 070 $a Sveshnikov $b Alexey $p FZU-D $T Fyzikální ústav AV ČR, v. v. i.
Počet záznamů: 1