Počet záznamů: 1
Nitrogen rich carbon nitride thin films deposited by hybrid PLD technique
- 1.
SYSNO ASEP 0133845 Druh ASEP J - Článek v odborném periodiku Zařazení RIV J - Článek v odborném periodiku Poddruh J Ostatní články Název Nitrogen rich carbon nitride thin films deposited by hybrid PLD technique Tvůrce(i) Jelínek, Miroslav (FZU-D) RID, ORCID
Kulish, W. (DE)
Lančok, Ján (FZU-D) RID, ORCID
Popov, C. (DE)
Bulíř, Jiří (FZU-D) RID, ORCID, SAI
Delplancke-Ogletree, M. P. (BE)Zdroj.dok. Molecular Crystals and Liquid Crystals - ISSN 1058-725X
Roč. 374, - (2002), s. 207-210Poč.str. 4 s. Jazyk dok. eng - angličtina Země vyd. GB - Velká Británie Klíč. slova laser deposition ; carbon nitride ; radiofrequency discharge ; hollow cathode discharge Vědní obor RIV BM - Fyzika pevných látek a magnetismus CEZ AV0Z1010914 - FZU-D Anotace Highly nitrogenated CNx films were created by pulsed laser deposition, combined with radiofrequency and hollow cathode discharges. The N/C ratio higher than 1 was measured. Deposition set- up and results of optical measurement are discussed. Pracoviště Fyzikální ústav Kontakt Kristina Potocká, potocka@fzu.cz, Tel.: 220 318 579 Rok sběru 2003
Počet záznamů: 1