Počet záznamů: 1
Reaktivní HiPIMS depoziční systém optimalizovaný pro tenké optické vrstvy
- 1.0499948 - FZÚ 2021 RIV CZ cze L - Prototyp, funkční vzorek
Hubička, Zdeněk - Čada, Martin - Olejníček, Jiří - Kšírová, Petra - Straňák, Vítězslav - Adámek, Petr - Tvarog, Drahoslav
Reaktivní HiPIMS depoziční systém optimalizovaný pro tenké optické vrstvy.
[Reactive HiPIMS deposition system optimised for optical thin films.]
Interní kód: FVG1/FZU/2018 ; 2018
Technické parametry: Mezní tlak plazmového reaktoru: 5 10-8 mbar, maximální střední výkon na jeden magnetron: 1000 W, rozměry terčů magnetronů: 50 mm, maximální výkon do ICP elektrody: 400 W, maximální DC magnetické pole
Ekonomické parametry: Laboratorní zařízení nezbytné pro další aplikovaný výzkum
Grant CEP: GA MPO FV20580
Institucionální podpora: RVO:68378271
Klíčová slova: sputtering * thin films * plasma * deposition * hollow cathode
Obor OECD: Fluids and plasma physics (including surface physics)
HiPIMS reaktivní systém se dvěma magnetrony a ICP RF rezonanční elektrodou byl realizován pro depozice optických polovodivých vrstev na plošné optické struktury
HiPIMS reactive system with two magnetrons and ICP RF resonance electrode was realized for the deposition of optical semiconductor thin films on the surface optical structures.
Trvalý link: http://hdl.handle.net/11104/0292132
Počet záznamů: 1