Aparatura pro detekci nečistot v naneseném rezistu

0496767 - ÚPT 2019 RIV CZ cze L - Prototyp, funkční vzorek
Drozd, Michal - Knápek, Alexandr - Král, Stanislav - Matějka, Milan - Chlumská, Jana - Pavelka, Jan - Kolařík, Vladimír - Krátký, Stanislav - Horáček, Miroslav - Meluzín, Petr
Aparatura pro detekci nečistot v naneseném rezistu.
[Apparatus for detecting of particles in coated resist layer.]
Interní kód: APL-2018-05 ; 2018
Technické parametry: Jedná se o aparaturu používající pro skenování digitální kameru. Rozměry: 45x35x50 cm, rychlost skenování 1cm2/2min., rozlišení částic > 10 um. Typ podložek: Si destička 4‘a 6‘.
Ekonomické parametry: Funkční vzorek realizovaný při řešení grantu s předpokladem smluvního využití s ekonomickým přínosem i po jeho ukončení. Kontakt: Ing. Alexandr Knápek, Ph.D., knapek@isibrno.cz
Grant CEP: GA TA ČR TG03010046; GA MŠMT(CZ) LO1212
Institucionální podpora: RVO:68081731
Klíčová slova: e–beam lithography * quality control * image processing
Obor OECD: Automation and control systems

Funkční vzorek WaferScan je rastrovací zařízení, umožňující skenovat křemíkovou podložku (wafer) optickou kamerou a analýzou obrazu v počítači zjistit polohu a velikost defektů a prachových částic v rezistu naneseném na waferu. Celé zařízení se skládá ze dvou pohyblivých os x a y, které umožňují pohyb kamery, a příslušené elektroniky. Součástí je také software k ovládání zařízení a zpracování obrazu.

Functional sample WaferScan is a scanning device that allows to scan a silicon wafer coated with a resist layer. Wafer surface is scanned with an optical camera and the image is analyzed on the computer to determine the location and size of the defects and dust particles in the resist layer. The entire device consists of two moving axes x and y (that allow the movement of the camera) and the control electronic circuitry. Software to control the scanning device and the image processing tool are also included.
Trvalý link: http://hdl.handle.net/11104/0289410