0483401 - ÚPT 2018 RIV CZ cze V - Výzkumná zpráva
Matějka, Milan - Horáček, Miroslav - Meluzín, Petr - Chlumská, Jana - Král, Stanislav - Kolařík, Vladimír - Krátký, Stanislav - Knápek, Alexandr
SMV-2017-06: Vývoj testovacích preparátů pro REM.
[SMV-2017-06: Development of test specimens for SEM.]
Brno: TESCAN, 2017. 6 s.
Zdroj financování: N - neveřejné zdroje
Klíčová slova: relief structure * e-beam lithography * silicon etching * microlithography
Obor OECD: Nano-processes (applications on nano-scale)

Vývoj v oblasti realizace přesných reliéfních struktur v křemíku určených pro testování zobrazování v rastrovacích elektronových mikroskopech (REM).

Research and development in the field realization of precise relief structures in the silicon dedicated to the testing of the scanning electron microscopes (SEM) deflection field and accuracy.
Trvalý link: http://hdl.handle.net/11104/0278733