Systém pro měření toků neutrálních a ionizovaných depozičních částic dopadajících na substrát při růstu tenkých vrstev

0396132 - FZÚ 2014 RIV cze P1 - Užitný vzor, průmyslový vzor
Hubička, Zdeněk - Čada, Martin - Kubart, T. - Adámek, Petr - Olejníček, Jiří - Kment, Štěpán
Systém pro měření toků neutrálních a ionizovaných depozičních částic dopadajících na substrát při růstu tenkých vrstev.
[System for measurement of ion and neutral particles flux deposited onto substrate during thin film deposition process.]
2013. Vlastník: Fyzikální ústav AV ČR, v. v. i. Datum udělení vzoru: 16.09.2013. Číslo vzoru: 25867
Grant CEP: GA TA ČR TA01011740; GA MŠMT LH12043
Institucionální podpora: RVO:68378271
Klíčová slova: ion flux * neutral particles * magnetic field * deposition rate
Kód oboru RIV: BL - Fyzika plazmatu a výboje v plynech
http://spisy.upv.cz/UtilityModels/FullDocuments/FDUM0025/uv025867.pdf

Technické řešení měřiče ionizovaných a neutrálních depozičních částic a jejich vzájemného poměru lze použít při monitorování vlastností a parametrů procesu nanášení tenkých vrstev pomocí plazmochemických metod PECVD a fyzikálních plazmových depozičních metod PVD. Je známo, že velikost ionizace depozičních částic má velký vliv na kvalitu a fyzikální vlastnosti deponovaných vrstev.

Technical solutions of measurement device for ionized and neutral particles and their ratio can be used to monitor the properties and process parameters during thin films deposition by means of PECVD and plasma PVD methods. It is known that the magnitude of the ionization fraction of deposited particles has a large influence on the quality and physical properties of the deposited films.
Trvalý link: http://hdl.handle.net/11104/0223966