0312311 - ÚCHP 2009 RIV DE eng J - Článek v odborném periodiku
Urbanová, Markéta - Pokorná, Dana - Bakardjieva, Snejana - Šubrt, Jan - Bastl, Zdeněk - Pola, Josef
IR Laser-Induced Carbothermal Reduction of Silica.
[IČ laserově iniciovaná karbothermální redukce siliky.]
European Journal of Inorganic Chemistry. Roč. 2008, č. 26 (2008), s. 4111-4116. ISSN 1434-1948. E-ISSN 1099-0682
Grant CEP: GA AV ČR IAA400720619
Výzkumný záměr: CEZ:AV0Z40720504; CEZ:AV0Z40320502; CEZ:AV0Z40400503
Klíčová slova: ir laser * silica * nanocomposite
Kód oboru RIV: CH - Jaderná a kvantová chemie, fotochemie
Impakt faktor: 2.694, rok: 2008 ; AIS: 0.749, rok: 2008
DOI: https://doi.org/10.1002/ejic.200800473

IR laser irradiation of silica in the presence of ethene or benzene affords deposition of amorphous carbon-silicon oxycarbide nanocomposite with crystalline SiO2 domains.

IČ laserové ozařování siliky v přítomnosti acetylenu nebo benzenu vede k deposici amorfního nanokompositu uhlíku a oxykarbidu křemíku s krystalickými doménami SiO2.
Trvalý link: http://hdl.handle.net/11104/0163405