0183552 - UJF-V 950139 RIV CZ eng C - Konferenční příspěvek (zahraniční konf.)
Peřina, Vratislav - Janča, J.
RF plasma deposition and characterization of organosilicon thin films from TEOS+O.SUB.2 gas mixtures.
Proceedings of 17th Symposium on Plasma Physics and Technology. Praha: EF ČVUT ÚFP AV ČR, 1995 - (Píchal, J.), s. 275-277
[Symposium on Plasma Physics and Technology /17./. Prague (CZ), 13.06.1995-16.06.1995]
Trvalý link: http://hdl.handle.net/11104/0080038