Počet záznamů: 1  

Defect Formation in the Dual B and N Ions Implanted Silicon

  1. 1.
    0183435 - UJF-V 940107 RIV CZ eng J - Článek v odborném periodiku
    Popok, V. - Odzhajev, V. - Hnatowicz, Vladimír - Kvítek, Jiří - Švorčík, V. - Rybka, V.
    Defect Formation in the Dual B and N Ions Implanted Silicon.
    Czechoslovak Journal of Physics. Roč. 44, č. 10 (1994), s. 949-956. ISSN 0011-4626
    Impakt faktor: 0.330, rok: 1994
    Trvalý link: http://hdl.handle.net/11104/0001963

     
     

Počet záznamů: 1  

  Tyto stránky využívají soubory cookies, které usnadňují jejich prohlížení. Další informace o tom jak používáme cookies.