Počet záznamů: 1
Nonequilibrium model of laser-induced phase change processes in amorphous silicon thin films
- 1.0174518 - MU-W 980027 RIV US eng J - Článek v odborném periodiku
Černý, R. - Přikryl, Petr
Nonequilibrium model of laser-induced phase change processes in amorphous silicon thin films.
Physical Review. E. Roč. 57, č. 1 (1998), s. 194-202. ISSN 1063-651X
Grant CEP: GA ČR GA201/97/0217; GA AV ČR IAA1010719
Kód oboru RIV: BJ - Termodynamika
Impakt faktor: 2.066, rok: 1998
Trvalý link: http://hdl.handle.net/11104/0071524
Název souboru Staženo Velikost Komentář Verze Přístup Prikryl.pdf 1 193.5 KB Vydavatelský postprint vyžádat
Počet záznamů: 1