Počet záznamů: 1  

XPS study of siloxane plasma polymer films

  1. 1.
    0134652 - FZU-D 20030552 RIV NL eng J - Článek v odborném periodiku
    Bálková, R. - Zemek, Josef - Čech, V. - Vaněk, J. - Přikryl, R.
    XPS study of siloxane plasma polymer films.
    Surface and Coatings Technology. 174-175, - (2003), s. 1159-1163. ISSN 0257-8972
    Grant CEP: GA ČR GA104/00/0708; GA MŠMT OC 527.110
    Výzkumný záměr: CEZ:AV0Z1010914
    Klíčová slova: radio frequency(RF) * X-ray photoelectron spectroscopy(XPS) * electron spectroscopy for chemical analysis(ESCA)
    Kód oboru RIV: BM - Fyzika pevných látek a magnetismus
    Impakt faktor: 1.410, rok: 2003

    The composition of elements in the surface region (top 6-8 nm) of the deposited films was studied by X-ray-induced photoelectron spectroscopy(XPS) on an ADES 400 VG Scientific photoelectron spectrometer using MgKŕ(1253.6 eV) or AlKŕ (1486.6 eV) photon beams at the normal emiaaion angle.
    Trvalý link: http://hdl.handle.net/11104/0032546

     
     

Počet záznamů: 1  

  Tyto stránky využívají soubory cookies, které usnadňují jejich prohlížení. Další informace o tom jak používáme cookies.