0133442 - FZU-D 20010294 RIV US eng J - Článek v odborném periodiku
Shaginyan, L. R. - Mišina, Martin - Kadlec, Stanislav - Jastrabík, Lubomír - Macková, Anna - Peřina, Vratislav
Mechanizm of the film composition formation durind magnetron sputtering of WTi.
Journal of Vacuum Science & Technology A : Vacuum, Surfaces and Films. Roč. 19, č. 5 (2001), s. 2554-2566. ISSN 0734-2101. E-ISSN 1520-8559
Grant CEP: GA ČR GV106/96/K245; GA ČR GA106/99/D086
Výzkumný záměr: CEZ:AV0Z1010914
Klíčová slova: WTi * unbalanced magnetron sputtering * EPMA
Kód oboru RIV: BM - Fyzika pevných látek a magnetismus
Impakt faktor: 1.448, rok: 2001

The WTi films were deposited by an unbalanced magnetron sputtering of WTi (70>30 at.
Trvalý link: http://hdl.handle.net/11104/0031407