Počet záznamů: 1  

Comparative characterization of nitrogen-rich CN.sub.x./sub. films prepared by different ICP-CVD techniques

  1. 1.
    0133418 - FZU-D 20010269 RIV FR eng J - Článek v odborném periodiku
    Popov, C. - Bulíř, Jiří - Zambov, L. M. - Delplancke-Ogletree, M. P. - Kulisch, W.
    Comparative characterization of nitrogen-rich CNx films prepared by different ICP-CVD techniques.
    Journal de Physique IV. Roč. 11, - (2001), s. 731-738. ISSN 1155-4339
    Výzkumný záměr: CEZ:AV0Z1010914
    Klíčová slova: nitrogen rich CNxfilms * ICP/CVP
    Kód oboru RIV: BM - Fyzika pevných látek a magnetismus
    Impakt faktor: 0.401, rok: 2001

    Thin amorphous nitrogen-rich CNx films (N/(C+N)ň0.5) have been prepared by two inductively coupled plasma chemical vapour deposition (ICP/CVP) techniques:using transport reactions from a solid carbon source and from CCl4/NH3/Ar and CCl4/N2/H2/Ar gas mixtures. The result of both deposition methods were compared and discussed on the base of the specificities ot the processes.
    Trvalý link: http://hdl.handle.net/11104/0031387

     
     

Počet záznamů: 1  

  Tyto stránky využívají soubory cookies, které usnadňují jejich prohlížení. Další informace o tom jak používáme cookies.