Počet záznamů: 1  

Preparation of nitrogen-rich CN.sub.x./sub. films with inductively coupled plasma CVD and pulsed laser deposition

  1. 1.
    0133417 - FZU-D 20010268 RIV CH eng J - Článek v odborném periodiku
    Bulíř, Jiří - Delplancke-Ogletree, M. P. - Lančok, Ján - Jelínek, Miroslav - Popov, C. - Klett, A. - Kulisch, W.
    Preparation of nitrogen-rich CNx films with inductively coupled plasma CVD and pulsed laser deposition.
    Diamond and Related Materials. Roč. 10, - (2001), s. 1901-1909. ISSN 0925-9635. E-ISSN 1879-0062
    Výzkumný záměr: CEZ:AV0Z1010914
    Klíčová slova: carbon nitride films * inductively coupled plasma chemicalvapor deposition * pulsed laser deposition
    Kód oboru RIV: BM - Fyzika pevných látek a magnetismus
    Impakt faktor: 1.902, rok: 2001

    Nitrogen/rich amorphous carbon nitride films with N/(N+C)ň0.5 have been deposited with three different methods, namely (i) inductively coupled plasma CVD utilizing chemical transport reactions (ICP-CTR), (ii) inductively coupled plasma CVD with gaseous precursors (ICP-GP) and (iii) pulsed laser deposition (PLD) with additional r.f plasma discharge.
    Trvalý link: http://hdl.handle.net/11104/0031386

     
     

Počet záznamů: 1  

  Tyto stránky využívají soubory cookies, které usnadňují jejich prohlížení. Další informace o tom jak používáme cookies.