Počet záznamů: 1  

Characterization of hard Ti-W-N films deposited by reactive D.C. magnetron sputtering

  1. 1.
    0132858 - FZU-D 20000113 RIV SI eng J - Článek v odborném periodiku
    Shaginyan, L. R. - Mišina, Martin - Musil, Jindřich - Regent, F.
    Characterization of hard Ti-W-N films deposited by reactive D.C. magnetron sputtering.
    Kovine, Zlitine, Technologije. Roč. 33, č. 6 (1999), s. 497-500. ISSN 1318-0010.
    [Conference on Materials and Technology /7./. Portorož, 13.10.1999-15.10.1999]
    Grant CEP: GA ČR GV106/96/K245
    Výzkumný záměr: CEZ:AV0Z1010914
    Kód oboru RIV: BM - Fyzika pevných látek a magnetismus

    Ti-W-N films deposited by reactive d.c. magnetron sputtering from a W-Ti target in a mixture of argon and nitrogen onto steel and silicon substrates.
    Trvalý link: http://hdl.handle.net/11104/0030854

     
     

Počet záznamů: 1  

  Tyto stránky využívají soubory cookies, které usnadňují jejich prohlížení. Další informace o tom jak používáme cookies.