Počet záznamů: 1  

Dynamics of excimer laser annealing of hydrogenated amorphous silicon thin films

  1. 1.
    0132432 - FZU-D 990382 RIV US eng J - Článek v odborném periodiku
    Ivlev, G. - Gatskevitch, E. - Cháb, Vladimír - Stuchlík, Jiří - Vorlíček, Vladimír - Kočka, Jan
    Dynamics of excimer laser annealing of hydrogenated amorphous silicon thin films.
    Applied Physics Letters. Roč. 75, - (1999), s. 498-500. ISSN 0003-6951. E-ISSN 1077-3118
    Výzkumný záměr: CEZ:AV0Z1010914
    Kód oboru RIV: BM - Fyzika pevných látek a magnetismus
    Impakt faktor: 4.184, rok: 1999
    Trvalý link: http://hdl.handle.net/11104/0030458

     
     

Počet záznamů: 1  

  Tyto stránky využívají soubory cookies, které usnadňují jejich prohlížení. Další informace o tom jak používáme cookies.