Počet záznamů: 1  

Ion assisted deposition of crystalline TiNi thin films by electron cyclotron resonance plasma enhanced sputtering

  1. 1.
    0132073 - FZU-D 980320 RIV JP eng J - Článek v odborném periodiku
    Mišina, Martin - Setsuhara, Y. - Miyake, S.
    Ion assisted deposition of crystalline TiNi thin films by electron cyclotron resonance plasma enhanced sputtering.
    Japanese Journal of Applied Physics. Roč. 36, 6A (1997), s. 3629-3634. ISSN 0021-4922. E-ISSN 1347-4065
    Impakt faktor: 1.261, rok: 1997
    Trvalý link: http://hdl.handle.net/11104/0030111

     
     

Počet záznamů: 1  

  Tyto stránky využívají soubory cookies, které usnadňují jejich prohlížení. Další informace o tom jak používáme cookies.