Počet záznamů: 1  

Discharge characteristics of facing target sputtering device using unbalanced magnetrons

  1. 1.
    0131150 - FZU-D 960503 RIV US eng J - Článek v odborném periodiku
    Muralidhar, G. K. - Musil, Jindřich - Kadlec, Stanislav
    Discharge characteristics of facing target sputtering device using unbalanced magnetrons.
    Journal of Vacuum Science & Technology A : Vacuum, Surfaces and Films. Roč. 14, - (1996), s. 2182-2186. ISSN 0734-2101. E-ISSN 1520-8559
    Impakt faktor: 1.613, rok: 1996
    Trvalý link: http://hdl.handle.net/11104/0029235

     
     

Počet záznamů: 1  

  Tyto stránky využívají soubory cookies, které usnadňují jejich prohlížení. Další informace o tom jak používáme cookies.