Počet záznamů: 1  

Factors influencing resistance of UV-irradiated DNA to the restriction endonuclease cleavage

  1. 1.
    0104655 - BFU-R 20043037 RIV NL eng J - Článek v odborném periodiku
    Kejnovský, Eduard - Nejedlý, Karel - Kypr, Jaroslav
    Factors influencing resistance of UV-irradiated DNA to the restriction endonuclease cleavage.
    [Faktory ovlivňující odolnost DNA ozářené ultrafialovým světlem vůči štěpení restrikčními endonukleasami.]
    International Journal of Biological Macromolecules. Roč. 34, č. 3 (2004), s. 213-222. ISSN 0141-8130. E-ISSN 1879-0003
    Grant CEP: GA AV ČR IAA5004802; GA AV ČR IAA1004201; GA AV ČR IAA1004301
    Výzkumný záměr: CEZ:AV0Z5004920
    Klíčová slova: DNA * structure * damage
    Kód oboru RIV: BO - Biofyzika
    Impakt faktor: 1.328, rok: 2004

    DNA molecules of pUC19, pBR322 and PhiX174 were irradiated by various doses of UV light and the irradiated molecules were cleaved by about two dozen type II restrictases. The irradiation generally blocked the cleavage in a dose-dependent way. In accordance with previous studies, the (A + T)-richness and the (PyPy) dimer content of the restriction site belongs among the factors that on average, cause an increase in the resistance of UV damaged DNA to the restrictase cleavage. However, we observed strong effects of UV irradiation even with (G + C)-rich and (PyPy)-poor sites. In addition, sequences flanking the restriction site influenced the protection in some cases (e.g. HindIII), but not in others (e.g. SalI), whereas neoschizomer couples SmaI and AvaI, or SacI and Ecl136II, cleaved the UV-irradiated DNA similarly. Hence the intrastrand thymine dimers located in the recognition site are not the only photoproduct blocking the restrictases.

    DNA molekul pUC19, pBR322 a PhiX174 byla ozářena různými dávkami ultrafialového (UV) světla a následně byla štěpena více než dvaceti restriktasami typu II. Štěpení bylo obecně inhibováno ozářením, v závislosti na velikosti dávky. V souladu s dřívějšími studiemi, mezi faktory, které jako celek způsobují zvýšení odolnosti DNA (poškozené UV světlem) vůči restriktasovému štěpení, patří bohaté zastoupení (A+T) párů a obsah dimérů (PyPy). Nicméně jsme pozorovali silný vliv ozáření UV světlem i na úseky bohaté (G+C) páry a chudé na diméry (PyPy). Navíc, sekvence obklopující restrikční místo v některých případech ochranu před štěpením ovlivňovaly (např. HindIII), zatímco v jiných nikoliv (např. SalI). Přitom neoschizomerové páry SmaI a AvaI, nebo SacI a Ecl136II štěpily DNA ozářenou UV světlem podobně. Tudíž vnitrořetězcové thyminové diméry uvnitř rekogničního místa nejsou jediným fotoproduktem, blokujícím restriktasové štěpení.
    Trvalý link: http://hdl.handle.net/11104/0011921

     
     
Počet záznamů: 1  

  Tyto stránky využívají soubory cookies, které usnadňují jejich prohlížení. Další informace o tom jak používáme cookies.