0102484 - FZU-D 20040535 RIV CZ eng K - Konferenční příspěvek (tuzemská konf.)
Novotný, Michal - Jelínek, Miroslav - Bulíř, Jiří - Lančok, Ján - Vorlíček, Vladimír
Nanocrystalline diamond films preparation by hybrid pulsed laser deposition.
[Nanokrystalické diamantové vrstvy deponované hybridní pulsní laserovou depozicí.]
Proceedings of Workshop 2004. Vol. 8. Praha: ČVUT Praha, 2004, s. 176-177. CTU Reports., Special Issue.
[Workshop 2004. Praha (CZ), 22.03.2004-26.03.2004]
Grant CEP: GA AV ČR IAA1010110; GA MŠMT LN00A015
Výzkumný záměr: CEZ:AV0Z1010914
Klíčová slova: pulsed laser deposition * nanocrystalline diamond
Kód oboru RIV: BM - Fyzika pevných látek a magnetismus

We used pulsed laser deposition (PLD) and hybrid PLD (HPLD) techniques for NCD thin films preparation. KrF excimer laser beam (Lumonics, .lambda.=248 nm , 20 ns, 500 mJ) was focused on graphite target with energy density of 4-7 J.cm^{- 2}. Films were deposited on sapphire and Si(100) substrates in hydrogen and argon/hydrogen ambient

Metody pulsní laserové depozice (PLD) a hybridní PLD (HPLD) byli použity pro přípravu NCD tenkých vrstev. Excimerový KrF laser byl fokusován na grafitový terč a vrstvy připraveny na safírové a Si(100) podložky ve vodíkové a agrón/vodíkové atmosférách
Trvalý link: http://hdl.handle.net/11104/0009832