0100532 - FZU-D 20040388 RIV NL eng J - Článek v odborném periodiku
Ito, M. - Koch, Ch. - Švrček, Vladimír - Schubert, M. B. - Werner, J. H.
Silicon thin film solar cells deposited under 80^o C.
[Křemíkové tenkovrstvé sluneční články nadeponované při teplotách nižších než 80^oC.]
Thin Solid Films. Roč. 383, - (2001), s. 129-131. ISSN 0040-6090. E-ISSN 1879-2731
Výzkumný záměr: CEZ:AV0Z1010914
Klíčová slova: protocrystalline * low-temperature deposition * annealing * fill factor
Kód oboru RIV: BM - Fyzika pevných látek a magnetismus
Impakt faktor: 1.266, rok: 2001

Even at low deposition temperatures, the protocrystalline Si (pc-Si:H) exhibits a high photosensitivity and remarkably enhanced stability against light saturation

Překvapivě i při nízkých teplotách protokrystalický křemík vykazuje vysokou fotocitlivost a pozoruhodnou stabilitu vůči saturaci s bílým světlem
Trvalý link: http://hdl.handle.net/11104/0008032