0100518 - FZU-D 20040374 RIV DE eng J - Článek v odborném periodiku
Rezek, Bohuslav - Garrido, J. A. - Stutzmann, M. - Nebel, C. E. - Snidero, E. - Bergonzo, P.
Local oxidation of hydrogenated diamond surfaces for devices fabrication.
[Lokální oxidace hydrogenovaných povrchů diamantů pro výrobu elektronickych prvků.]
Physica Status Solidi A. Roč. 193, č. 3 (2002), s. 523-528. ISSN 0031-8965
GRANT EU: European Commission(XE) HPRN-CT-1999-00139
Grant ostatní: Deutsche Forschungsgemeinschaft contr.(DE) NE524-2
Výzkumný záměr: CEZ:AV0Z1010914
Klíčová slova: photolithography * e-beamlithography * atomic force microscopy
Kód oboru RIV: BM - Fyzika pevných látek a magnetismus
Impakt faktor: 0.979, rok: 2002

The combination of photolithography, e-beam lithography and atomic force microscopy(AFM) techniques is used for local oxidation of hydrogen terminated surfaces with a resolution down to ~10nm

Kombinace fotolitografie, litografie elektronovým svazkem a AFM litografie je použita pro lokální oxidaci povrchů ukončených vodíkem s rozlišením 10 nm
Trvalý link: http://hdl.handle.net/11104/0008018