0100235 - FZU-D 20040215 RIV NL eng J - Článek v odborném periodiku
Kulykovskyy, Valeriy - Vorlíček, Vladimír - Boháč, Petr - Kurdymov, A. - Jastrabík, Lubomír
Mechanical properties of hydrogen-free a-C:Si films.
[Mechanické vlastnosti vodíku prostých vrstev a-C:Si.]
Diamond and Related Materials. Roč. 13, 1350-1355 (2004), s. 1350-1355. ISSN 0925-9635. E-ISSN 1879-0062
Výzkumný záměr: CEZ:AV0Z1010914
Klíčová slova: a-C:Si hydrogen-free films * mechanaical properties * Raman spectra
Kód oboru RIV: BM - Fyzika pevných látek a magnetismus
Impakt faktor: 1.670, rok: 2004

a-C:Si films with Si concentration between 3 and 50 at.% were prepared by magnetron sputtering of pure graphite and silicon. Films do not delaminate evan from steel substrates and remain stable after vacuum annealing up to 780^oC. Mechanical properties (microhardness, intrinsic stress) and structure (electron diffraction, Raman spectra were investigated

Vrstvy a-C:Si s koncentrací křemíku mezi 3 a 50 at. % byly připraveny magnetovým naprašováním čistého grafitu a křemíku. Vrstvy se neodlupují ani z ocelových podložek a po temperaci ve vakuu do 780 °C zůstávají stabilní. Zkoumány byly jejich mechanické vlastnosti (mikrotvrdost, vnitřní pnutí) a struktura (difrakce elektronů, Ramanův rozptyl)
Trvalý link: http://hdl.handle.net/11104/0007739