0100131 - FZU-D 20040111 RIV NL eng J - Článek v odborném periodiku
Zemek, Josef - Jiříček, Petr - Hucek, Stanislav - Jablonski, A. - Lesiak, B.
Escape probability of photoelectrons from silver sulphide.
[Úniková pravděpodobnost fotoelektronů z AgS.]
Surface Science. Roč. 473, - (2001), s. 8-16. ISSN 0039-6028. E-ISSN 1879-2758
Výzkumný záměr: CEZ:AV0Z1010914
Klíčová slova: computer simulations * electron-solid scattering and transmission-elastic * electron-solid scattering-inelastic * X-ray photoelectron spectroscopy * silver * polycrystalli ne surfaces
Kód oboru RIV: BM - Fyzika pevných látek a magnetismus
Impakt faktor: 2.189, rok: 2001

The escape probability as a function of depth of origine for the S 2s photoelectrons at .alpha.=0^o exhibited a non-monotonic behaviour with a maximum beneath the surface at a depth of 0.6-0.8 nm

Hloubková závislost únikové pravděpodobnosti S 2s fotoelektronů není monotonní funkcí hloubky původu fotoelektronů. Vytváří maximum pod povrchem v hloubce 0.6-0.8 nm
Trvalý link: http://hdl.handle.net/11104/0007637