Počet záznamů: 1  

Studium struktury a růstu nizkoteplotního protokrystalického křemíku pomocí AFM mikroskopu

  1. 1.
    0100037 - FZU-D 20040013 RIV CZ cze J - Článek v odborném periodiku
    Mates, Tomáš - Fejfar, Antonín - Drbohlav, Ivo - Rezek, Bohuslav - Fojtík, Petr - Luterová, Kateřina - Pelant, Ivan - Kočka, Jan
    Studium struktury a růstu nizkoteplotního protokrystalického křemíku pomocí AFM mikroskopu.
    [Influence of film thickness, silane concentration and substrate temperature on structure and electrical properties of thin film protocrystalline silicon.]
    Československý časopis pro fyziku. Roč. 53, - (2003), s. 93-96. ISSN 0009-0700
    Grant CEP: GA AV ČR IAA1010809; GA AV ČR IAB2949101
    Výzkumný záměr: CEZ:AV0Z1010914
    Klíčová slova: PECVD * microcrystalline silicon * AFM
    Kód oboru RIV: BM - Fyzika pevných látek a magnetismus

    Studium vlivu tlouštky vrstvy, koncentrace silanu a teploty substrátu na strukturu a elektrické vlastnosti tenkých vrstev mikrokrystalického křemíku, připraveného pomocí PECVD.

    Study of influence of film thickness, silane concentration and substrate temperature on structure and electrical properties of thin microcrystalline siliconfilms by PECVD is presented.
    Trvalý link: http://hdl.handle.net/11104/0007545

     
     

Počet záznamů: 1  

  Tyto stránky využívají soubory cookies, které usnadňují jejich prohlížení. Další informace o tom jak používáme cookies.