Počet záznamů: 1  

Device for measurement of thermal emissivity at cryogenics temperatures

  1. 1.
    0100016 - UPT-D 20040016 RIV CZ eng C - Konferenční příspěvek (zahraniční konf.)
    Králík, Tomáš - Hanzelka, Pavel - Musilová, Věra - Srnka, Aleš
    Device for measurement of thermal emissivity at cryogenics temperatures.
    [Zařízení pro měření tepelné emisivity při nízkých teplotách.]
    Proceedings of the 8th Cryogenics 2004 IIR international conference. Praha: ICARIS, 2004, s. 23-29. ISBN 2-913149-33-2. ISSN 0151-1637.
    [Cryogenics 2004 /8./ IIR International Conference. Praha (CZ), 27.04.2004-30.04.2004]
    Grant CEP: GA AV ČR IBS2065109
    Klíčová slova: cryogenic system * temperature dependency * material surfaces
    Kód oboru RIV: BJ - Termodynamika

    In the described device, the thermal emissivity or absorptivity of the sample is measured by substitution of the radiative heat flow between two parallel surfaces by thermal output of a heater. Fast measurements of the mutual emissivity for the range of the temperature of the radiating surface 25 K - 150 K are possible. The absorbing surface has a temperature between 5 K and 10 K when LHe is used as cryoliquid. The desired measurement sensitivity is 1 mK for temperature and 0.1 mikroW for heat power, respectively. The diameter of the whole device is 50 mm and so it is possible to use a commercial Dewar can for the cooling. The form of the sample is a circular plate 40 mm in diameter and 1 mm in thickness with one tested side. The emissivity and its temperature dependence for various surface treatments can be checked immediately before application in a cryogenic system

    V popsaném zařízení se měří tepelná emisivita nebo absorptivita vzorku substitucí toku tepla zářením mezi dvěma rovnoběžnými povrchy tepelným výkonem topení. Je možné provádět rychlá měření vzájemné emisivity v rozsahu teplot zářícího povrchu 25 K- 150 K. Absorbující povrch má teplotu 5 K - 10 K, je-li k chlazení použito LHe. Dosahovaná citlivost měření je 1mK pro teplotu nebo 0,1 mikroW pro tepelný výkon. Celkový průměr zařízení je 50 mm a k chlazení lze použít komerčně dostupnou Dewarovu nádobu. Vzorek má tvar disku o průměru 40 mm o tloušťce 1 mm s jednou měřenou stranou. Lze měřit emisivitu a její teplotní závislost pro různé úpravy povrchů bezprostředně před jejich použitím v kryogenním zařízení
    Trvalý link: http://hdl.handle.net/11104/0007523

     
     
Počet záznamů: 1  

  Tyto stránky využívají soubory cookies, které usnadňují jejich prohlížení. Další informace o tom jak používáme cookies.