Ablation of organic polymers by 46.9-nm-laser radiation

0025952 - FZÚ 2006 RIV US eng J - Článek v odborném periodiku
Juha, Libor - Bittner, Michal - Chvostová, Dagmar - Krása, Josef - Präg R., Ansgar - Ullschmied, Jiří - Pientka, Zbyněk - Krzywinski, J. - Wawro, A. - Grisham, M. E. - Menoni, C.S. - Rocca, J.J. - Otčenášek, Zdeněk - Pelka, B. - Vaschenko, G. O.
Ablation of organic polymers by 46.9-nm-laser radiation.
[Ablace organických polymerů laserovým zářením o vlnové délce 46,9 nm.]
Applied Physics Letters. Roč. 86, č. 3 (2005), 034109/1-034109/3. ISSN 0003-6951. E-ISSN 1077-3118
Grant CEP: GA MŠMT(CZ) 1P04LA235; GA MŠMT(CZ) LN00A100
Výzkumný záměr: CEZ:AV0Z10100523
Klíčová slova: ablation * XUV laser * capillary discharge laser
Kód oboru RIV: BH - Optika, masery a lasery
Impakt faktor: 4.127, rok: 2005

We report results of the exposure of poly(tetrafluorethylene)-(PTFE), poly(methyl methacrylate)-(PMMA), and polymide-(PI) to intense 46.9 nm-laser pulses of 1.2-ns-duration at fluences raging from ~ 0.1 to ~ 10J/cm²

Záření z neonu-podobného argonového XUV laseru (λ= 46,9 nm, λ= 1,2 ns) na kapilárním výboji bylo fokusováno kulovým Sc/Si mnohovrstvým zrcadlem aby ablaovalo polymethylmetakrylát, polytetrafluoroethylen a polyimid. Všechny tři materiály se za daných podmínek ablaovaly s velmi podobnou účinností
Trvalý link: http://hdl.handle.net/11104/0116274