0025514 - FZÚ 2006 RIV GB eng J - Článek v odborném periodiku
Rosinski, M. - Badziak, J. - Boody, F. P. - Gammino, S. - Hora, H. - Krása, Josef - Láska, Leoš - Mezzasalma, A. M. - Parys, P. - Rohlena, Karel - Torrisi, L. - Ullschmied, Jiří - Wolowski, J. - Woryna, E.
Application of laser ion source for ion implantation technology.
[Použití laserového zdroje iontů pro technologii iontové implantace.]
Vacuum. Roč. 78, - (2005), s. 435-438. ISSN 0042-207X. E-ISSN 1879-2715
Výzkumný záměr: CEZ:AV0Z10100523
Klíčová slova: laser-matter interaction * laser ion source
Kód oboru RIV: BH - Optika, masery a lasery
Impakt faktor: 0.909, rok: 2005

The laser-produced plasma has been used as a source of ions with different charge states and with different kinetic energies for ion implantation into various materials: metals, polymers and semiconductors, in order to modify their properties. The implantation depth was measured using Rutherford backscattering spectroscopy (RBS)

Laserové plazma bylo využito jako zdroj iontů o různých nábojových číslech a s různou kinetickou energií pro implantaci iontů do různých materiálů (kovů, polymerů a polovodičů) s cílem modifikovat jejich vlastnosti. Hloubka implantace byla měřena RBS spektroskopií (Ruthefordův zpětný rozptyl)
Trvalý link: http://hdl.handle.net/11104/0115895