Počet záznamů: 1  

Výzkum a vývoj pokročilého PVD/PECVD nízkoteplotního plazmatického systému pro depozice funkčních oxidů se zaměřením na tenké a tlusté vrstvy TiO2 pro průmyslové aplikace

  1. 1.
    ProjektVýzkum a vývoj pokročilého PVD/PECVD nízkoteplotního plazmatického systému pro depozice funkčních oxidů se zaměřením na tenké a tlusté vrstvy TiO2 pro průmyslové aplikace.
    Název projektuTF01000084
    PoskytovatelGA TA ČR
    Doba řešení2015 - 2017
    Příjemce projektu Fyzikální ústav AV ČR, v. v. i.
    (Spolu)řešitel projektu Olejníček
    Katal.org.CAV
    Odkazy (4) - Článek v odborném časopise
    (1) - Prototyp, funkční vzorek
    (1) - Patentový dokument
    (1) - Užitný vzor, průmyslový vzor
    (1) - Poloprovoz, technologie, odrůda, plemeno
    SouborProjekty
Počet záznamů: 1  

  Tyto stránky využívají soubory cookies, které usnadňují jejich prohlížení. Další informace o tom jak používáme cookies.

Přijmout všeNastaveníOdmítnout vše