Počet záznamů: 1  

High temperature PIN diodes based on amorphous hydrogenated silicon carbide and boron-doped diamond thin films

  1. 1.
    SYSNO ASEP0522073
    Druh ASEPA - Abstrakt
    Zařazení RIVO - Ostatní
    NázevHigh temperature PIN diodes based on amorphous hydrogenated silicon carbide and boron-doped diamond thin films
    Tvůrce(i) Stuchlíková, The-Ha (FZU-D) RID, ORCID
    Remeš, Zdeněk (FZU-D) RID, ORCID
    Mortet, Vincent (FZU-D) RID, ORCID
    Ashcheulov, Petr (FZU-D) ORCID, RID
    Krivyakin, G.K. (RU)
    Volodin, V. (RU)
    Stuchlík, Jiří (FZU-D) RID, ORCID
    Celkový počet autorů7
    Zdroj.dok.Book of Abstracts of IWEPNM 2019. - Berlin : Technische Universität Berlin Institut für Festkörperphysik, 2019 / Machón M.
    S. 37-37
    Poč.str.1 s.
    AkceInternational Winterschool on Electronic Properties of Novel Materials (IWEPNM) /33./
    Datum konání09.03.2019 - 16.03.2019
    Místo konáníKirchberg
    ZeměAT - Rakousko
    Typ akceWRD
    Jazyk dok.eng - angličtina
    Země vyd.DE - Německo
    Klíč. slovaPIN diodes ; hydrogenated silicon carbide ; boron doped diamond
    Vědní obor RIVBM - Fyzika pevných látek a magnetismus
    Obor OECDCondensed matter physics (including formerly solid state physics, supercond.)
    CEPEF16_019/0000760 GA MŠMT - Ministerstvo školství, mládeže a tělovýchovy
    GC19-02858J GA ČR - Grantová agentura ČR
    Institucionální podporaFZU-D - RVO:68378271
    AnotaceThe novel a-SiC:H diode structures on transparent conductive boron-doped diamond (BDD), have been deposited by the PECVD. The future of in-situ integration of nanoparticles and quantum dots in thin film structures for optoelectronic applications requires deposition temperatures above 400C. On the boron-doped diamond were deposited thin film PIN structure on the base of a-SiC:H. The layers have been studied by the SEM, temperature resolved electrical conductivity, optical absorptance, photocurrent and PL spectroscopy. The BDD/a-SiC:H diodes have been characterized by I-V measurement and by EL spectroscopy
    PracovištěFyzikální ústav
    KontaktKristina Potocká, potocka@fzu.cz, Tel.: 220 318 579
    Rok sběru2020
Počet záznamů: 1  

  Tyto stránky využívají soubory cookies, které usnadňují jejich prohlížení. Další informace o tom jak používáme cookies.