Počet záznamů: 1  

Impact of Si doping in different GaN layers on luminescence properties of InGaN/GaN multiple quantum well structure

  1. 1.
    SYSNO ASEP0496160
    Druh ASEPA - Abstrakt
    Zařazení RIVO - Ostatní
    NázevImpact of Si doping in different GaN layers on luminescence properties of InGaN/GaN multiple quantum well structure
    Tvůrce(i) Hájek, František (FZU-D) ORCID
    Zíková, Markéta (FZU-D) RID
    Hospodková, Alice (FZU-D) RID, ORCID, SAI
    Hubáček, Tomáš (FZU-D) ORCID
    Oswald, Jiří (FZU-D) RID, ORCID
    Celkový počet autorů5
    Zdroj.dok.Proceedings of the International Symposium on Growth of III-Nitrides ISGN-7. - : University of Warsaw, 2018
    S. 125-125
    Poč.str.1 s.
    AkceInternational Symposium on Growth of III-Nitrides ISGN-7
    Datum konání05.08.2018 - 10.08.2018
    Místo konáníWarsaw
    ZeměPL - Polsko
    Typ akceWRD
    Jazyk dok.eng - angličtina
    Země vyd.PL - Polsko
    Klíč. slovaInGaN/GaN ; quantum wells ; doping ; luminescence
    Vědní obor RIVBM - Fyzika pevných látek a magnetismus
    Obor OECDCondensed matter physics (including formerly solid state physics, supercond.)
    CEPGA16-11769S GA ČR - Grantová agentura ČR
    LO1603 GA MŠMT - Ministerstvo školství, mládeže a tělovýchovy
    Institucionální podporaFZU-D - RVO:68378271
    AnotaceLuminescence properties of InGaN/GaN multiple quantum wells (MQWs) are influenced by internal spontaneous and piezoelectric fields. These can be at least partially suppressed by doping with shallow impurities. This work shows impact of Si doping in different layers of MQWs on photoluminescence and cathodoluminescence of InGaN/GaN MQWs. To explain observed trends, band structure is also simulated. From our results emerges demand for Si doping at least under MQW area to obtain higher luminescence intensities. On the other hand, such doping also enhances unwanted defect luminescence which is detrimental for using InGaN MQWs as scintillation material.
    PracovištěFyzikální ústav
    KontaktKristina Potocká, potocka@fzu.cz, Tel.: 220 318 579
    Rok sběru2019
Počet záznamů: 1  

  Tyto stránky využívají soubory cookies, které usnadňují jejich prohlížení. Další informace o tom jak používáme cookies.