Počet záznamů: 1
Deposition and forming of nanoparticles on the hydrogenated silicon thin films
- 1.
SYSNO ASEP 0483632 Druh ASEP A - Abstrakt Zařazení RIV O - Ostatní Název Deposition and forming of nanoparticles on the hydrogenated silicon thin films Tvůrce(i) Stuchlík, Jiří (FZU-D) RID, ORCID
Fajgar, Radek (UCHP-M) RID, ORCID, SAI
Kupčík, Jaroslav (UCHP-M) RID, ORCID, SAI
Stuchlíková, The-Ha (FZU-D) RID, ORCID
Ledinský, Martin (FZU-D) RID, ORCID, SAI
Čermák, Jan (FZU-D) RID, SAI, ORCID
Píč, Vlastimil (FZU-D)
Remeš, Zdeněk (FZU-D) RID, ORCID
Mortet, Vincent (FZU-D) RID, ORCID
Shklyaev, A.A. (RU)
Volodin, V. (RU)Celkový počet autorů 11 Zdroj.dok. E-MRS 2017 Spring Meeting and Exhibit. - Strasbourg : European Materials Research Society, 2017 Poč.str. 1 s. Forma vydání Online - E Akce E-MRS 2017 Spring Meeting and Exhibit Datum konání 22.05.2017 - 26.05.2017 Místo konání Strasbourg Země FR - Francie Typ akce WRD Jazyk dok. eng - angličtina Země vyd. FR - Francie Klíč. slova nanoparticles ; hydrogen ; silicon Vědní obor RIV BM - Fyzika pevných látek a magnetismus Obor OECD Condensed matter physics (including formerly solid state physics, supercond.) Vědní obor RIV – spolupráce Ústav chemických procesů
Ústav chemických procesů - Fyzikální chemie a teoretická chemieCEP GC16-10429J GA ČR - Grantová agentura ČR LM2015087 GA MŠMT - Ministerstvo školství, mládeže a tělovýchovy GA13-31783S GA ČR - Grantová agentura ČR Institucionální podpora FZU-D - RVO:68378271 ; UCHP-M - RVO:67985858 Anotace Thin films prepared by deposition of nanoparticles on the surface of hydrogenated silicon were studied for optoelectronic applications. Three techniques were used to prepare the nanoparticles – high vacuum evaporation resp. MBE and ArF laser ablation. Broad range of deposition conditions (e.g. precursor pressure, temperature and laser fluence) was studied. Interesting and utilizable optoelectronic properties were observed at multilayered films composed of different nanoparticles. Research was focused on preparation of magnesium silicide, calcium silicide, germanium and tin nanoparticles. The nanoparticles were deposited immediately after deposition of the hydrogenated silicon layer by plasma enhanced CVD without exposing the underlying layer to ambient air. The deposited material was characterized by means of Raman and photoelectron spectroscopy techniques. Transmission, scanning and atomic force microscopies were used for more detailed description of the prepared layers. Pracoviště Fyzikální ústav Kontakt Kristina Potocká, potocka@fzu.cz, Tel.: 220 318 579 Rok sběru 2018
Počet záznamů: 1