Počet záznamů: 1  

The hydrogen plasma doping of nanocrystalline ZnO thin flms

  1. 1.
    SYSNO ASEP0483629
    Druh ASEPA - Abstrakt
    Zařazení RIVO - Ostatní
    NázevThe hydrogen plasma doping of nanocrystalline ZnO thin flms
    Tvůrce(i) Chang, Yu-Ying (FZU-D)
    Remeš, Zdeněk (FZU-D) RID, ORCID
    Stuchlík, Jiří (FZU-D) RID, ORCID
    Celkový počet autorů3
    Zdroj.dok.E-MRS 2017 Spring Meeting and Exhibit. - Strasbourg : European Materials Research Society, 2017
    Poč.str.1 s.
    Forma vydáníOnline - E
    AkceE-MRS 2017 Spring Meeting and Exhibit
    Datum konání22.05.2017 - 26.05.2017
    Místo konáníStrasbourg
    ZeměFR - Francie
    Typ akceWRD
    Jazyk dok.eng - angličtina
    Země vyd.FR - Francie
    Klíč. slovaZnO ; magnetron sputtering ; hydrogen ; doping
    Vědní obor RIVBM - Fyzika pevných látek a magnetismus
    Obor OECDCondensed matter physics (including formerly solid state physics, supercond.)
    CEPGC16-10429J GA ČR - Grantová agentura ČR
    Institucionální podporaFZU-D - RVO:68378271
    AnotaceWe study the effect on the optical and electrical properties of hydrogen plasma treatment of the nominally undoped, nanocrystalline ZnO thin films deposited by DC reactive magnetron sputtering of Zn target in the gas mixture of argon and oxygen plasma. After hydrogen plasma treatment, the increase of the electrical conductivity and the increase of the infrared optical absorption was detected and related to the increase of the free carrier concentration. To confirm this relation, the mobility and carrier concentration were measured by temperature dependent electrical resistivity and Hall effect using the van der Pauw method. We also investigated the localized defect states below the optical absorption edge using optical absorption spectroscopy and photoluminescence in a broad spectral range from near UV to near IR. We conclude that the increase of the electrical conductivity is indeed confirmed to be related to the increase of the free carrier concentration.
    PracovištěFyzikální ústav
    KontaktKristina Potocká, potocka@fzu.cz, Tel.: 220 318 579
    Rok sběru2018
Počet záznamů: 1  

  Tyto stránky využívají soubory cookies, které usnadňují jejich prohlížení. Další informace o tom jak používáme cookies.