Počet záznamů: 1

Plasma treatment and annealing of ZnO thin films

SYSNO ASEP	0477992
Druh ASEP	C - Konferenční příspěvek (mezinárodní konf.)
Zařazení RIV	D - Článek ve sborníku
Název	Plasma treatment and annealing of ZnO thin films
Tvůrce(i)	Chang, Yu-Ying (FZU-D) Remeš, Zdeněk (FZU-D)_{RID, ORCID}
Zdroj.dok.	Extended Abstract Book of 9th Conference Solid State Surfaces and Interfaces. - Bratislava : Comenius University, 2016 / Brunner R. - ISBN 978-80-223-4203-2
Rozsah stran	s. 68-69
Poč.str.	2 s.
Forma vydání	Tištěná - P
Akce	Conference Solid State Surfaces and Interfaces /9./ (SSSI 2016)
Datum konání	21.11.2016 - 24.11.2016
Místo konání	Piestany
Země	SK - Slovensko
Typ akce	EUR
Jazyk dok.	eng - angličtina
Země vyd.	SK - Slovensko
Klíč. slova	ZnO ; reactive magnetron sputtering ; hydrogen plasma treatment
Vědní obor RIV	BM - Fyzika pevných látek a magnetismus
Obor OECD	Condensed matter physics (including formerly solid state physics, supercond.)
CEP	GC16-10429J GA ČR - Grantová agentura ČR
Institucionální podpora	FZU-D - RVO:68378271
Anotace	The modification of the electrical and optical properties of ZnO by annealing and plasma treatment has been investigated extensively. After hydrogen plasma treatment, the increase of the infrared optical absorption, related to free carrier concentration, is detected below the optical absorption edge. The increase of the optical absorption correlates with the increase of the electrical conductivity related to the increase of the free carrier concentration. On the other hand, after oxidation and thermal annealing in air, the optical absorption is significantly reduced in the infrared region and the electrical resistivity increases.
Pracoviště	Fyzikální ústav
Kontakt	Kristina Potocká, potocka@fzu.cz, Tel.: 220 318 579
Rok sběru	2018

Počet záznamů: 1