Počet záznamů: 1  

Direct measurements of the ion flux at the substrate in reactive HiPIMS

  1. 1.
    SYSNO ASEP0464208
    Druh ASEPA - Abstrakt
    Zařazení RIVO - Ostatní
    NázevDirect measurements of the ion flux at the substrate in reactive HiPIMS
    Tvůrce(i) Čada, Martin (FZU-D) RID, ORCID, SAI
    Lundin, D. (FR)
    Hubička, Zdeněk (FZU-D) RID, ORCID, SAI
    Zdroj.dok.International Conference on Plasma Surface Engineering. Abstracts. ( PSE 2016 ) /15./. - Braunschweig : European Joint Committee on Plasma and Ion Surface Engineering (EJC / PISE), 2016
    S. 415-415
    Poč.str.1 s.
    Forma vydáníOnline - E
    AkceInternational Conference on Plasma Surface Engineering ( PSE 2016 )
    Datum konání12.09.2016 - 16.09.2016
    Místo konáníGarmisch-Partenkirchen
    ZeměDE - Německo
    Typ akceWRD
    Jazyk dok.eng - angličtina
    Země vyd.DE - Německo
    Klíč. slovaHiPIMS ; impedance ; ion flux ; reactive sputtering
    Vědní obor RIVBL - Fyzika plazmatu a výboje v plynech
    CEPGA15-00863S GA ČR - Grantová agentura ČR
    TA03010743 GA TA ČR - Technologická agentura ČR
    Institucionální podporaFZU-D - RVO:68378271
    AnotaceA direct measurement of the ion flux impinging on the substrate during ionized physical vapour deposition is valuable input when optimizing thin film deposition processes such as High-Power Impulse magnetron sputtering. However, these measurements are often complicated by the fact that they require expensive diagnostic equipment. For that reason an innovative approach consisting of an extension of a quartz crystal microbalance (QCM) sensor has been investigated in the present contribution. On top of deposition rate, the modified QCM is able to measure ionized fraction of depositing particles and ion flux on the substrate. Recently reported results proved that magnets placed at the top of the QCM sensor are able to significantly reduce electron current on the positively biased electrode attached to the crystal and in this way measure only the deposition rate of neutral particles.
    PracovištěFyzikální ústav
    KontaktKristina Potocká, potocka@fzu.cz, Tel.: 220 318 579
    Rok sběru2017
Počet záznamů: 1  

  Tyto stránky využívají soubory cookies, které usnadňují jejich prohlížení. Další informace o tom jak používáme cookies.